您知道什么是AMC嗎?其實AMC是氣體性分子污染物(Airborne Molecular Contamination)的縮寫，主要被SEMI定義有四大子項目：MA(酸蒸氣)、MB(鹼蒸氣)、MC(凝結(jié)物質(zhì))及MD(摻雜物質(zhì))，來源可能是無塵室外的汽車排氣、大氣臭氧、工廠排放等，或是潔凈室內(nèi)的化學溶劑揮發(fā)、蝕刻酸氣、塑料制品溢散等，由于來源非常廣泛，污染物項目族繁多元，因此如何有效控制逐漸成為相關業(yè)者相當困擾的一大難題。

一、為何現(xiàn)在大家開始重視AMC？ 

(1)AMC對半導體制程良率的影響，其實相關業(yè)者很早就已開始進行防范，但過去僅針對于大顆粒物質(zhì)；但隨著制程愈來愈精細，預防的標準也愈形嚴格，并在28奈米制程時達到檢測要求的高峰。不僅在體積大小較過去嚴苛，AMC檢測的項目也從過去單純的酸鹼物質(zhì)，漸漸擴增到有機物質(zhì)，而有機物的物種的監(jiān)測也從過去半導體重視的十多種，漸漸擴增到新的未知有機物物種。 

(2)為何要投入未知物質(zhì)的偵測？原因在于半導體制程分有很多階段，每段都有不同的化學物質(zhì)投入，因此當我們要判斷污染來源時，我們除了要判斷當下制程的污染外，也要了解前段制程是否殘留有污染，或操作人員當下是否有造成其他來源的污染，唯有每段精確的掌握狀況，才可能真的杜絕污染源繼續(xù)發(fā)展。 

二、產(chǎn)業(yè)如何因應AMC問題？ 

 (1)半導體業(yè)者為了與其他競爭者拉出領先差異，對于AMC的全面性檢測標準要求日益嚴格。目前臺灣知名半導體大廠也已導入這樣的自動監(jiān)控設備，因為所有業(yè)者都了解，透過良率的提升，將是維持競爭優(yōu)勢的最大命脈。 

 (2)光電產(chǎn)業(yè)部分，OLED的前端LTPS制程也開始重視AMC的偵測控制。這塊制程在電性控制上非常重要，因此AMC的偵測也相形重要。臺灣某大面板廠目前也已導入自動監(jiān)控設備，以求良率的提升。 

面板產(chǎn)業(yè)常用的曝光機制程、表層涂布制程，對于AMC干擾都會有相當敏感的反應，因此更需對AMC作更精密的控制。AMC的產(chǎn)生會讓曝光機的鏡頭產(chǎn)生化學反應，進而在光學鏡頭上產(chǎn)生化合物的附著，而這樣的狀況就會產(chǎn)生制程上的異常點。(光影污染) 

三、奇鼎在AMC監(jiān)測上有何優(yōu)勢技術？ 

奇鼎科技在AMC檢測上擁有領先業(yè)界的優(yōu)勢技術，業(yè)已與諸多半導體廠商進行先進制程上的合作，其主要特出效能如下說明。 

 (1)奇鼎透過和某大半導體廠商在 28奈米制程上的合作，將過去繁瑣的現(xiàn)場取樣，動輒花費半天、一天甚至二天的單點的污染源偵測，直接變成將偵測儀器建置客戶端FAB內(nèi)，自動化進行偵測分析的模式。偵測時間不但可縮減至幾近即時的5分鐘，取樣點也從單點變成40個取樣點，取樣距離更可達200米，單機即可涵括整個FAB的范圍，各項數(shù)據(jù)都足證奇鼎在IN-LINE偵測解析上的先進技術是遠遠領先同業(yè)。 

(2)奇鼎的IN-LINE取樣可以在5分鐘內(nèi)解析出800種AMC物種，除了半導體業(yè)界已知會影響良率的400～500種常見物種外，也會同步解析出過去未知的物種；使用者可透過良率的時間軸跟抽樣物種的時間軸進行比對， 進而了解哪些物種將可能造成良率的重大影響，即可在未來的制程運作中主動進行該項AMC物種的預防(包含已知物種和未知物種)。 

因應各項制程日益精密的趨勢，微型化奈米時代的來臨，部分產(chǎn)業(yè)過去可接受較寬的污染物容忍值，將肯定會快速進入極嚴格控制的時代。奇鼎科技提供的AMC偵測解析解決方案，將可協(xié)助相關業(yè)者進行即時、系統(tǒng)化、高涵蓋度的監(jiān)控，并獲取可作后續(xù)比對的關鍵數(shù)據(jù)，進而透過杜絕關鍵性微污染物而達到良率提升的目的。